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光学频率合成器-光频梳

概括描(miao)叙:EFO-COMB是一种高精(jing)(jing)度的光学(xue)(xue)频(pin)(pin)率合成器(qi)(qi),设计用于多(duo)项研(yan)究和工业应(ying)用,如原(yuan)子(zi)激(ji)光冷却,超精(jing)(jing)密长(zhang)度测量,光学(xue)(xue)时钟,激(ji)光雷达,天(tian)文学(xue)(xue),超稳(wen)定微波发生器(qi)(qi),频(pin)(pin)率参考(kao)信(xin)号和时间戳的光学(xue)(xue)传输(shu),红(hong)外光谱等(deng)。光学(xue)(xue)频(pin)(pin)率合成器(qi)(qi)-光频(pin)(pin)梳

  • 服务参数:
  • 中间商规定性:代理商
  • 刷新耗时:2021-06-02
  • 访  问  量:3646
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品牌其他品牌产地类别进口
应用领域医疗卫生,生物产业,电子,交通

光电平(ping)率转化成器-光频梳

名(ming)字:谷(gu)工(Givin)

热线:185 1625 1863

EFO-COMB就是种高要求的光纤缴光手术切割机的次数转化成器,设计方案适用单选题研究方案和工业制造选用,如原子结构缴光手术冷凝,超精密制造总长度量测,光纤缴光手术切割机的挂钟,缴光手术汽车雷达,天文学,超稳定性徽波引发器,次数决定性数字信号和精力戳的光纤缴光手术切割机的接入,红外光谱分析等。该磁学聚合器單元就是个交钥匙装置设备,属于有一个掺铒锁模光纤宽带激光行业行业器,该激光行业行业用具有固定的脉冲信号多次重复概率和载波包络偏置Fceo。梳状发电量机可不可以设计制作成借鉴使用微波射频借鉴使用源(在1秒时供给5*10^-13的传送固界定),还有磁学借鉴使用系統(在1秒如今降成~1*10^-16)。该系统性化有条个嵌入的超多次谱發生器和有一位可用在维持Fceo的f-2f抵触仪。该规格标段测试卷存在4个低工作电压网络网络光纤解耦效果(约1560nm),适可用在各方面应该用和各方面自选系统性的连接方式。全保偏网络网络光纤选址,确定交钥匙不断断续续运转。有一位单独的的的控制机架包含了了锁相环标段测试卷、锁相环标段测试卷、大数据收集和显视系统性化。 

光学频率合成器可以集成以下功能:

  • 稳定性的超连着光谱分析梳在1000-2200nm使用范围,可以达到200mW
  • 安全稳定的超持续光谱分析梳在500-1000nm範圍,多达80mW
  • 同时的窄带输入输出(s)与Δλ~ 2…5nm,在500-1000微米和1000-2200nm条件内的其他空间
  • 高打印输出打印输出1560nm,达250mW, Frep和Fceo维持
  • 高工作电压的输出在780nm,自由高达100mW,Frep和Fceo平稳
  • 拍频的检测模快(BDUs)在梳状时有等离子发生器的光频和外面连续式波机光器间展示 rf射频拍频4g信号
  • 锁相环单元尺寸,适用于平衡第三方不断波缴光器到梳状突发器的光学元件频次
  • 頻率区间为10MHz到10GHz的超稳频射效果
  • 差分频繁 形成器(DFG)(如3400 nm)
 

产品规格:

EFO-COMB 
Comb spacing (Frep)100 MHz
Stability with connection to an RF reference<5·10^-13 at 1 s&nbsp;or same as reference
Stability with connection to an optical reference<1·10^-16 at 1 s or same as reference
Tuning range of comb spacing>0.7 MHz
Tuning range of offset frequency Fceo>100 MHz
Optical outputs2 or 4 fiber-coupled output ports or collimated free-space outputs at 1560 nm, 520-1000 nm, 1000-2200 nm, other wavelengths upon request (optional)
Central wavelength (fixed)1560±10 nm
Full spectral coverage (with additional options)520-1000 nm, 1000-2200 nm, other wavelengths upon request
Output power>5 mW from each output;
>250 mW @ 1560 nm (optional);
>200 mW @1000-2200 nm (optional);
>80 mW @ 520-1000 nm (optional)
Optical unit dimensions (L x W x H)356 x 492 x 110 mm
Control rack dimensions (W x L)640 x 553 mm (rack height depends on exact configuration)
 

应用领域:

超不断谱行成光频计量检验光学仪器平率梳光电技术挂钟和准确时间的标准同步软件和随机面积测度 
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