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桌面型纳米压印机

概述分析:光(guang)(guang)刻(ke)技(ji)术实际上是(shi)一(yi)种精密(mi)表面加工技(ji)术,它借助于一(yi)定波长的(de)激光(guang)(guang)光(guang)(guang)源(yuan)以(yi)(yi)及选择性的(de)化学(xue)腐蚀(shi)和(he)刻(ke)蚀(shi)技(ji)术把设计(ji)的(de)微纳图案转移到硅基板上。但是(shi)随着集成(cheng)(cheng)电(dian)路功能和(he)密(mi)度的(de)提(ti)升(sheng)传统(tong)的(de)光(guang)(guang)刻(ke)技(ji)术已经难以(yi)(yi)满足当(dang)前对(dui)线宽越来越小(xiao)的(de)需(xu)求。但是(shi)打破衍射(she)(she)极限的(de)大型(xing)光(guang)(guang)刻(ke)设备又极其昂(ang)贵(gui)。为了(le)摆脱光(guang)(guang)学(xue)衍射(she)(she)极限和(he)克服高成(cheng)(cheng)本(ben)的(de)限制,一(yi)种操作简单,成(cheng)(cheng)本(ben)低廉的(de)纳米压印(yin)技(ji)术产生了(le)。桌面型(xing)纳米压印(yin)机

  • 成品材质:AU-CNI
  • 销售商概念:代理商
  • 自动更新时刻:2021-06-02
  • 访  问  量:2659
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产地类别进口

桌面型纳米压印机

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超密集nm印压机!归属品目:调查机 » 无掩模光刻设计方法服务保障人数:李工(William)

超紧身(shen)纳米级压纹机

 光刻技能实则上就是这种精密机械制造表皮粗加工技能,它有效通过于必然激发光谱的缴光面光源各类选取性的物理被腐蚀和刻蚀技能把设计方案的微纳图形画移转到硅基钢板上。并且逐渐集成系统电路板能力和黏度的增强传统化的光刻技能现在早已难于能够满足现今对线宽越变越小的所需。并且戳破衍射超凡的巨型光刻装备又极为贵重。因为面对电子光学衍射超凡和不要高成本低费用的禁止,这种进行简单化,成本低费用用低廉的納米级压纹技能出现了。納米级压纹的技能重要是充分的通过机械制造能将刚需文档模板上的图形画转到抗蚀剂上,后面再有效通过溶脱、分离、刻蚀等将图形画移转到基钢板上。到目前早已早已压纹技能现在早已经济发展过来好几类型,典例的属于热塑压纹技能、分光光度计固有压纹、微沾染納米级压纹、缴光配套納米级压纹和滚轴式納米级压纹技能等。 深圳昊量光电我司机 有效我司面世的纳米级印压机AU-CUI为热印压和分光光度计固化型印压机 。 AU-CNInm技术热转印工艺机也是款电脑桌面面积的nm技术热转印工艺和热压脱模的器机。它可不就也可以主要用于nm或nm技术空间结构的热转印工艺脱模。AU-CNI什么造句可不就也可以通过热热转印工艺还可不就也可以通过UV热转印工艺。

就热(re)热(re)转印工(gong)艺一方面(mian)产品完(wan)成加入的压强(qiang)使模板下载与(yu)基(ji)钢板严密(mi)打交道,充压泵空间大多达到11bar,一般(ban)是前提热(re)度(du)调(diao)控(kong)热(re)转印工(gong)艺步(bu)骤。热(re)度(du)最多能(neng)(neng)达到200℃,在主要包括原(yuan)位实时路况校正湿度(du),因而控(kong)温导致精度(du)能(neng)(neng)够达到到1℃。

 

UV瀑光过度进行4个365nm的LED照明,组成光的工作电压能达到到11.6W,LED的室温被时时测量,具备起热爱护功用,即是冒出起热的现像也能保证瀑光过度用药量最佳。

  另外主设备拥有着简约快捷的操作方法手机系统app。借助手机系统app就能够有效控制印压的室温、压、报光准确时间等参数值。还有就是就能够添加兼具储在该手机系统app中。

AU-CUI其控制简便,基(ji)本功能强悍,最易确保(bao)新的测(ce)试和非标准(zhun)件准(zhun)的制作加工。是纳米技术压纹的*平台。

 
  1. 热转印工艺样式例(li)
 


 

 

桌面型纳米压印机货品(pin)优点和缺点

l   操作的简短

l   即(ji)插即(ji)用(yong)

l   结构设计紧(jin)促

l   多种类妙用

主要(yao)的应该用

微米(mi)(mi)换算(suan)/纳米(mi)(mi)级的结构的印压

高丛横(heng)比构成的印压

缔(di)合物的(de)热热转印工艺

压纹模板图片自制

好(hao)产品性能参数

 

Pressure

Imprint pressure from 0.3 - 11 bar overpressure

Temperature

Up to 200ºC with control of +/- 1ºC

UV exposure

UV led light with 365 nm wavelength and optical power of 11600 mW

Vacuum

The imprint chamber can be evacuated down to pressure below 1 mbar

Size of imprint chamber

Diameter of 100 mm and height of 20 mm (can be expanded up to 45   mm)

Automated replication process

1Stamp and   substrate are loaded manually

2Replication   process is fully automated and controlled through CNI software

Software

Full process control and flexibility. Everything besides loading   and unloading is handled by the software

CNI customization

CNI can be modified to meet individual requirements

On-line video instructions

On-line video installation and operation guides

Optional

1Pressure   booster to boost a lab compressed air supply from 3-5 bar to 6-10 bar

2Training   and/or installation by NILT personnel

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