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Mirrorcle MEMS扫描镜技术概述(2)

更新时间:2022-06-17 点击次数:1387

Mirrorcle MEMS扫描镜技术概述(2)



*的四象限弯曲耐热性 

几年里,MirrorcleTech的(de)(de)无的(de)(de)框架(jia)技(ji)能(neng)还正处(chu)于壮(zhuang)大的(de)(de)晚期阶段中,在那代ARIMEMS1到(dao)ARIMEMS6中制(zhi)造出的(de)(de)一(yi)(yi)切自(zi)(zi)(zi)(zi)动(dong)(dong)(dong)化机(ji)(ji)械(xie)装(zhuang)(zhuang)(zhuang)(zhuang)备(bei)皆是单(dan)象限(xian)(1Q)或单(dan)边结(jie)构类行(xing)自(zi)(zi)(zi)(zi)动(dong)(dong)(dong)化机(ji)(ji)械(xie)装(zhuang)(zhuang)(zhuang)(zhuang)备(bei)。这指的(de)(de)是每一(yi)(yi)个(ge)轴(zhou)(zhou)(己经是两(liang)轴(zhou)(zhou)或双轴(zhou)(zhou)2D自(zi)(zi)(zi)(zi)动(dong)(dong)(dong)化机(ji)(ji)械(xie)装(zhuang)(zhuang)(zhuang)(zhuang)备(bei))会使梳妆镜从匀(yun)速直(zhi)线运动(dong)(dong)(dong)地理位置(zhi)(0°)偏(pian)转到(dao)一(yi)(yi)旁(pang)(举个(ge)例子(zi)+8°),但无法(fa)偏(pian)转到(dao)另外一(yi)(yi)个(ge)旁(pang)(举个(ge)例子(zi)-8°)。所以说(shuo),明显的(de)(de)一(yi)(yi)象限(xian)(1Q)自(zi)(zi)(zi)(zi)动(dong)(dong)(dong)化机(ji)(ji)械(xie)装(zhuang)(zhuang)(zhuang)(zhuang)备(bei)改变了X轴(zhou)(zhou)上0°到(dao)+8°的(de)(de)自(zi)(zi)(zi)(zi)动(dong)(dong)(dong)化机(ji)(ji)械(xie)装(zhuang)(zhuang)(zhuang)(zhuang)备(bei)偏(pian)斜(xie),Y轴(zhou)(zhou)上0°到(dao)+8°的(de)(de)自(zi)(zi)(zi)(zi)动(dong)(dong)(dong)化机(ji)(ji)械(xie)装(zhuang)(zhuang)(zhuang)(zhuang)备(bei)偏(pian)斜(xie)。今日,在MEMS磨砂行(xing)业内的(de)(de)类产品中,一(yi)(yi)切自(zi)(zi)(zi)(zi)动(dong)(dong)(dong)化机(ji)(ji)械(xie)装(zhuang)(zhuang)(zhuang)(zhuang)备(bei)结(jie)构类行(xing)都出示(shi)四象限(xian)(4Q)散射(she)转移到(dao)作(zuo)用,平(ping)常(chang)不可以全局更重(zhong)的(de)(de)总尖duan/偏(pian)斜(xie)角(jiao)度看(俩(liang)个(ge)轴(zhou)(zhou))。



四象限电子元件的直线化驱动程序

Mirrorcle Development Kits和(he)OEM MEMS驱(qu)使(shi)器(qi)(qi)(qi)系统程(cheng)序用到没事种装(zhuang)置(zhi)(zhi)指定(ding)区域(yu)的(de)技术,以偏(pian)微分(fen)(fen)四(si)出入(ru)(ru)口(kou)(BDQ)方(fang)案(an)设汁格(ge)式驱(qu)使(shi)器(qi)(qi)(qi)4Q MEMS驱(qu)使(shi)器(qi)(qi)(qi)器(qi)(qi)(qi)。如(ru)下图(tu)如(ru)图(tu)是(shi)(shi)1如(ru)图(tu)是(shi)(shi),该方(fang)案(an)设汁格(ge)式将强制(zhi)电(dian)动(dong)(dong)阀门的(de)电(dian)阻值角影响线型化(hua),并提(ti)升(sheng)从一(yi)(yi)(yi)两只(zhi)象(xiang)限(xian)到另个些(xie)两只(zhi)象(xiang)限(xian)的(de)光滑(hua)分(fen)(fen)层,即在装(zhuang)置(zhi)(zhi)内导致(zhi)一(yi)(yi)(yi)两只(zhi)强制(zhi)电(dian)动(dong)(dong)阀门到另个些(xie)两只(zhi)。在这(zhei)类玩法下,每一(yi)(yi)(yi)家补偿器(qi)(qi)(qi)叶的(de)正补偿器(qi)(qi)(qi)地(di)方(fang)和(he)负补偿器(qi)(qi)(qi)地(di)方(fang)总(zong)之(zhi)(差(cha)分(fen)(fen)地(di))啮合,因(yin)而(er)电(dian)阻值和(he)起动(dong)(dong)转矩总(zong)之(zhi)不断的(de)。全部的(de)Mirrorcle MEMS驱(qu)使(shi)器(qi)(qi)(qi)器(qi)(qi)(qi)都设汁为在这(zhei)类玩法下业务,因(yin)而(er)有3个带偏(pian)置(zhi)(zhi)导出的(de)出入(ru)(ru)口(kou)(两只(zhi)差(cha)分(fen)(fen)对)。导入(ru)(ru)还能(neng)否是(shi)(shi)数字9的(de)也还能(neng)否是(shi)(shi)模似(si)的(de),只(zhi)需要两只(zhi)出入(ru)(ru)口(kou)来调节x轴和(he)y轴的(de)具体位置(zhi)(zhi)。

图(tu)1 用(yong)单(dan)一和纵向配置相对比较可(ke)寻址立(li)场/大(da)小(xiao);每种个(ge)的意味电(dian)压降(jiang)与立(li)场的自(zi)动测量(liang)



鏡面原料、的品质和铝层

Mirrorcle Technologies MEMS mirror由单晶硅硅晶片原原装修用料,其效率与PC微办理器等集合电路系统的制作高技术相等。是因为选用相仿的大数量产量高技术以获取蕞高的制作高技术重叠性、效率和蕞低的费用,那么硅被用做基础上原装修用料。选泽实用与极大的的硅电子器件工業相等的起点原装修用料有进那步的后果,特别的是在光电高技术安全使用方位。晶圆片面上和那么制作高技术的雾面玻璃面上用的磨光高技术磨光到1纳米级有以下的干硬度。硅的*事例重要,在雾面玻璃用料化已经,是可以实用很多的办法使面上超净。于是,硅原装修用料自己在制作高技术方式中没什么稳定度剪切力,在雾面玻璃微加工生产后仍恢复此种稳定性。那么,硅条件平面反射镜体现了着*的铺布度,曲率基本上少于用传统性约束仪检测的的品质。用于MEMS雾面玻璃的材料,硅体现了着蕞好的是否干纯净度、铺布度。


在激光(guang)(guang)束方向机应用(yong)的(de)(de)(de)(de)(de)蕞后(hou)制(zhi)造制(zhi)造操作步骤中(zhong)(zhong),硅(gui)磨砂一(yi)定(ding)要(yao)涂覆(fu)以收(shou)获(huo)需(xu)求(qiu)(qiu)光(guang)(guang)的(de)(de)(de)(de)(de)波长的(de)(de)(de)(de)(de)高反射(she)层(ceng)面(mian)率(lv)。在标(biao)(biao)淮(huai)(huai)制(zhi)造时(shi)候(hou)中(zhong)(zhong),硅(gui)镜中(zhong)(zhong)会(hui)涂上一(yi)场层(ceng)细细的(de)(de)(de)(de)(de)铝(lv)(lv),几乎所有货源的(de)(de)(de)(de)(de)MEMS磨砂都用(yong)的(de)(de)(de)(de)(de)铝(lv)(lv)纳(na)米(mi)(mi)(mi)纳(na)米(mi)(mi)(mi)涂覆(fu)。有一(yi)些研制(zhi)制(zhi)造时(shi)候(hou)中(zhong)(zhong)的(de)(de)(de)(de)(de)方案被涂摸了(le)黄金白(bai)银(yin)。一(yi)般的(de)(de)(de)(de)(de)认为,可能(neng)便用(yong)别纳(na)米(mi)(mi)(mi)纳(na)米(mi)(mi)(mi)涂覆(fu)素(su)材,但有必(bi)须找到了(le)薄的(de)(de)(de)(de)(de)、低(di)应力应变的(de)(de)(de)(de)(de)纳(na)米(mi)(mi)(mi)纳(na)米(mi)(mi)(mi)涂覆(fu),而不可能(neng)取得降低(di)卫生(sheng)(sheng)间光(guang)(guang)学镜片(pian)的(de)(de)(de)(de)(de)光(guang)(guang)滑度(du)特质。是一(yi)两个(ge)(ge)极(ji)其包括终极(ji)成就感的(de)(de)(de)(de)(de)的(de)(de)(de)(de)(de)标(biao)(biao)准(zhun)要(yao)求(qiu)(qiu),可能(neng)MEMS反射(she)层(ceng)面(mian)镜的(de)(de)(de)(de)(de)规格极(ji)其小,往往在每一(yi)个(ge)(ge)新现(xian)状(zhuang)下都是需(xu)要(yao)海量的(de)(de)(de)(de)(de)研制(zhi)作业(ye)。在便用(yong)铝(lv)(lv)纳(na)米(mi)(mi)(mi)纳(na)米(mi)(mi)(mi)涂覆(fu)的(de)(de)(de)(de)(de)标(biao)(biao)淮(huai)(huai)加工中(zhong)(zhong),在一(yi)点款式和图片(pian)尺(chi)寸的(de)(de)(de)(de)(de)卫生(sheng)(sheng)间光(guang)(guang)学镜片(pian)中(zhong)(zhong)所确保(bao)>5 m的(de)(de)(de)(de)(de)曲率(lv)倾斜角。

mirr4.png

图2 MEMS弧面涂(tu)(tu)(tu)膜(mo):要求铝涂(tu)(tu)(tu)膜(mo)(左(zuo)),金涂(tu)(tu)(tu)膜(mo)(右)


所以产(chan)品都会(hui)(hui)以进(jin)行操(cao)作可高(gao)(gao)达2W的(de)(de)(de)持续(xu)波(bo)电(dian)(dian)(dian)脉(mai)冲缴(jiao)光(guang)(guang)机光(guang)(guang)公(gong)率(lv)(lv)(lv),而中受大(da)梳妆(zhuang)台镜(jing)子长度、电(dian)(dian)(dian)脉(mai)冲缴(jiao)光(guang)(guang)机光(guang)(guang)激发(fa)光(guang)(guang)谱(pu)和大(da)梳妆(zhuang)台镜(jing)子涂覆的(de)(de)(de)不良后果。要换取比(bi)较(jiao)高(gao)(gao)的(de)(de)(de)持续(xu)波(bo)电(dian)(dian)(dian)脉(mai)冲缴(jiao)光(guang)(guang)机光(guang)(guang)公(gong)率(lv)(lv)(lv),需求顾(gu)虑某一激发(fa)光(guang)(guang)谱(pu)下的(de)(de)(de)涂覆反射(she)层面(mian)(mian)(mian)率(lv)(lv)(lv)和反射(she)层面(mian)(mian)(mian)镜(jing)长度。普遍总的(de)(de)(de)来说,比(bi)较(jiao)大(da)的(de)(de)(de)的(de)(de)(de)鏡面(mian)(mian)(mian)长度就能够进(jin)行操(cao)作比(bi)较(jiao)高(gao)(gao)的(de)(de)(de)持续(xu)波(bo)公(gong)率(lv)(lv)(lv)机会(hui)(hui)四次较(jiao)高(gao)(gao)的(de)(de)(de)接触(chu)面(mian)(mian)(mian)冷凝。我们(men)对(dui)均衡公(gong)率(lv)(lv)(lv)较(jiao)低的(de)(de)(de)电(dian)(dian)(dian)脉(mai)冲缴(jiao)光(guang)(guang)电(dian)(dian)(dian)脉(mai)冲缴(jiao)光(guang)(guang)机光(guang)(guang)器,都会(hui)(hui)有各种的(de)(de)(de)不良后果,即高(gao)(gao)谷值公(gong)率(lv)(lv)(lv)电(dian)(dian)(dian)脉(mai)冲缴(jiao)光(guang)(guang)机会(hui)(hui)对(dui)废(fei)金属涂覆致使损害。在类似这些实际情况下鏡面(mian)(mian)(mian)的(de)(de)(de)表演与过去光(guang)(guang)电(dian)(dian)(dian)器件制造行业中的(de)(de)(de)通常数(shu)铝或渡金鏡面(mian)(mian)(mian)类似。



卫生间镜子品种及品种

模(mo)(mo)块(kuai)化镜的(de)孔径达(da)2.4豪(hao)米(mi)是大(da)体开(kai)发的(de)有(you)(you)一(yi)个模(mo)(mo)块(kuai)化部(bu)件的(de)万向(xiang)节(jie)安(an)装win7驱动(dong)控制(zhi)系统形(xing)式。鸟卵是硅合金(jin)(jin)模(mo)(mo)具的(de)中地区,与附(fu)近(jin)的(de)靜電(dian)安(an)装win7驱动(dong)兼有(you)(you)同(tong)(tong)等的(de)微细制(zhi)作步聚(ju)。某(mou)些(xie)梳妆台镜子是由同(tong)(tong)等的(de)硅层结(jie)构(gou),兼有(you)(you)平面和(he)光滑的(de)硅表面,镜子双轴连(lian)接到轴向(xiang)连(lian)杆,提供两轴运动(dong)。所有(you)(you)库存的(de)集成镜都涂上(shang)了纯铝,在很(hen)宽的(de)波长范围内具有(you)(you)很(hen)高的(de)反射率。黄金(jin)(jin)金(jin)(jin)属化可(ke)以在晶圆(yuan)规(gui)模(mo)(mo)上(shang)进行,因(yin)此可(ke)以用于更(geng)大(da)的(de)订单生产。


黏接镜与(yu)硅带动(dong)器(qi)(qi)机(ji)构(gou)隔(ge)开制作办(ban)法,广(guang)泛用于(yu)在(zai)机(ji)器(qi)(qi)壳体来后继的(de)(de)微折装。鉴于(yu)这一(yi)些卫(wei)生(sheng)(sheng)间全(quan)身镜是增加在(zai)机(ji)器(qi)(qi)带动(dong)器(qi)(qi)机(ji)构(gou)表层,不(bu)占(zhan)有(you)带动(dong)器(qi)(qi)区域性(xing)的(de)(de)一(yi)款分,于(yu)是基本上能(neng)够在(zai)随便宽度(du)。黏合镜办(ban)法能(neng)用户数取舍的(de)(de)尺寸(cun),及(ji)其每项(xiang)采用的(de)(de)卫(wei)生(sheng)(sheng)间全(quan)身镜的(de)(de)平面(mian)图形(xing)造型,以(yi)优化调整(zheng)车速,点光宽度(du)和扫描器(qi)(qi)多角(jiao)度(du)中的(de)(de)相互影响。


原先批处(chu)理创造硅(gui)电(dian)子(zi)元(yuan)(yuan)器(qi)(qi)如两轴MEMS光反射层镜(jing)电(dian)子(zi)元(yuan)(yuan)器(qi)(qi),只不得另外一种类型、/厚(hou)度的光反射层镜(jing)看做一整(zheng)个电(dian)子(zi)元(yuan)(yuan)器(qi)(qi)的有(you)区(qu)域。为研(yan)发兼备区(qu)别镜(jing)面板厚(hou)度的产(chan)品,绝大大部(bu)分(fen)数科技(ji)这样不仅(jin)要新的创造周期性,特(te)别在有(you)一些情况(kuang)发生下还要*进行来设(she)计驱(qu)动下载器(qi)(qi)。Mirrorcle Technologies提供了一种基(ji)于MEMS的、可(ke)定(ding)制孔径大小的光束(shu)转(zhuan)向技(ji)术。即,在自对准(zhun)DRIE制造过程(cheng)中,设(she)计并(bing)实现了一系列针对速度、角度、面积占(zhan)用或共振驱(qu)动优(you)化的静电(dian)执行器(qi)(qi)。镜(jing)面的直径和(he)几何形状由客(ke)户(hu)选(xuan)择,以优(you)化其特(te)定(ding)应用的性能。



梳妆台镜子长宽比及的角度耐磨性

浴室卫生(sheng)间(jian)大(da)(da)(da)梳(shu)妆(zhuang)(zhuang)台(tai)卫生(sheng)间(jian)镜(jing)(jing)子MEMS浴室卫生(sheng)间(jian)大(da)(da)(da)梳(shu)妆(zhuang)(zhuang)台(tai)卫生(sheng)间(jian)镜(jing)(jing)子没(mei)有(you)维(wei)(wei)度(du)影(ying)响(xiang),尽管浴室卫生(sheng)间(jian)大(da)(da)(da)梳(shu)妆(zhuang)(zhuang)台(tai)卫生(sheng)间(jian)镜(jing)(jing)子的(de)(de)(de)大(da)(da)(da)程度(du)小(xiao),抛开在(zai)(zai)较(jiao)少特(te)俗原因下。蕞大(da)(da)(da)维(wei)(wei)度(du)一(yi)般(ban)说来只要(yao) 在(zai)(zai)提高极(ji)(ji)速度(du)时才(cai)会遭备(bei)受影(ying)响(xiang),在(zai)(zai)大(da)(da)(da)都数构思中(zhong)(zhong),自(zi)动化偏转(zhuan)的(de)(de)(de)维(wei)(wei)度(du)有(you)可能在(zai)(zai)-5°到+5°之中(zhong)(zhong)。几乎所有(you)整合镜(jing)(jing)寸尺和在(zai)(zai)5.0mm直经的(de)(de)(de)黏结镜(jing)(jing)就能够在(zai)(zai)这样动用范围内动用。一(yi)部分浴室卫生(sheng)间(jian)大(da)(da)(da)梳(shu)妆(zhuang)(zhuang)台(tai)卫生(sheng)间(jian)镜(jing)(jing)子的(de)(de)(de)作动器有(you)更(geng)强的(de)(de)(de)维(wei)(wei)度(du)力量,在(zai)(zai)这原因下,只要(yao) 蕞大(da)(da)(da)的(de)(de)(de)镜(jing)(jing)遭备(bei)受自(zi)动化影(ying)响(xiang),依赖于(yu)于(yu)镜(jing)(jing)的(de)(de)(de)大(da)(da)(da)程度(du)小(xiao)。在(zai)(zai)订制开发好项目(mu)中(zhong)(zhong),Mirrorcle也展示出了6.4mm、8.2mm、9.0mm的(de)(de)(de)浴室卫生(sheng)间(jian)大(da)(da)(da)梳(shu)妆(zhuang)(zhuang)台(tai)卫生(sheng)间(jian)镜(jing)(jing)子。在(zai)(zai)许多(duo)原因下,过大(da)(da)(da)的(de)(de)(de)反射强度(du)镜(jing)(jing)惯量被换到较(jiao)低的(de)(de)(de)维(wei)(wei)度(du)偏转(zhuan),以提高极(ji)(ji)速度(du)和振动幅度(du)大(da)(da)(da)的(de)(de)(de)稳(wen)确定性。因,在(zai)(zai)许多(duo)寸尺的(de)(de)(de)特(te)俗应用软件(jian)中(zhong)(zhong),维(wei)(wei)度(du)影(ying)响(xiang)在(zai)(zai)~ -1°到+1°之中(zhong)(zhong)。



装备封裝

Mirrorcle MEMS鏡面(mian)的(de)(de)(de)制(zhi)作有(you)很多的(de)(de)(de)电(dian)子(zi)器(qi)(qi)(qi)件(jian)(jian)(jian)打(da)(da)(da)(da)(da)(da)包(bao)(bao)(bao)打(da)(da)(da)(da)(da)(da)包(bao)(bao)(bao)封装(zhuang)类型工具栏,所(suo)以(yi)两者(zhe)不(bu)是(shi)所(suo)需(xu)随(sui)便层(ceng)(ceng)次性的(de)(de)(de)材料、形(xing)态或(huo)室(shi)内环境條件(jian)(jian)(jian)行(xing)正常情况下进行(xing)。双轴传(chuan)动装(zhuang)置是(shi)所(suo)需(xu)16个引脚和最好不(bu)要4.4厘(li)米或(huo)很大的(de)(de)(de)平整平缓的(de)(de)(de)电(dian)子(zi)器(qi)(qi)(qi)件(jian)(jian)(jian)打(da)(da)(da)(da)(da)(da)包(bao)(bao)(bao)打(da)(da)(da)(da)(da)(da)包(bao)(bao)(bao)封装(zhuang)类型腔。同(tong)一技术参数会(hui)按(an)照业主追(zhui)求,的(de)(de)(de)使用更(geng)方(fang)便,光学元件(jian)(jian)(jian)仪(yi)器(qi)(qi)(qi)布置等。公有(you)2种打(da)(da)(da)(da)(da)(da)包(bao)(bao)(bao)打(da)(da)(da)(da)(da)(da)包(bao)(bao)(bao)封装(zhuang)可供选购:DIP24或(huo)LCC打(da)(da)(da)(da)(da)(da)包(bao)(bao)(bao)打(da)(da)(da)(da)(da)(da)包(bao)(bao)(bao)封装(zhuang)。具备着24个引脚的(de)(de)(de)传(chuan)统的(de)(de)(de)卫浴(yu)陶(tao)(tao)瓷制(zhi)品(pin)双列直(zhi)插(cha)式(shi)电(dian)子(zi)器(qi)(qi)(qi)件(jian)(jian)(jian)打(da)(da)(da)(da)(da)(da)包(bao)(bao)(bao)打(da)(da)(da)(da)(da)(da)包(bao)(bao)(bao)封装(zhuang)类型(DIP)确实是(shi)很多的(de)(de)(de)研制(zhi)场景(jing)设计(ji)中更(geng)方(fang)便和公用的(de)(de)(de)选购。某些电(dian)子(zi)器(qi)(qi)(qi)件(jian)(jian)(jian)打(da)(da)(da)(da)(da)(da)包(bao)(bao)(bao)打(da)(da)(da)(da)(da)(da)包(bao)(bao)(bao)封装(zhuang)类型,如同(tong)3所(suo)显示,有(you)差异(yi)的(de)(de)(de)腔面(mian)积,行(xing)可容每种Mirrorcle MEMS电(dian)子(zi)器(qi)(qi)(qi)件(jian)(jian)(jian)面(mian)积从4平厘(li)米到(dao)7.25平厘(li)米。DIP24在处(chu)里层(ceng)(ceng)面(mian)是(shi)种十分简洁(jie)的(de)(de)(de)克服(fu)预案,所(suo)以(yi)它行(xing)十分简洁(jie)地(di)手摸(mo)围着卫浴(yu)陶(tao)(tao)瓷制(zhi)品(pin)面(mian)拿着,然(ran)而方(fang)便自在地(di)不(bu)要与的(de)(de)(de)敏感的(de)(de)(de)MEMS和AR表层(ceng)(ceng)市场位置接处(chu)。面(mian)对(dui)DIP24仪(yi)器(qi)(qi)(qi),都是(shi)两个十分简洁(jie)的(de)(de)(de)ZIF插(cha)排布置克服(fu)预案,不(bu)可以(yi)方(fang)便自在的(de)(de)(de)光学元件(jian)(jian)(jian)仪(yi)器(qi)(qi)(qi)本(ben)职操作台舒芙蕾板,仪(yi)器(qi)(qi)(qi)对(dui)调等。

图(tu)3 (a)TINY20.4的连到(dao)器LCC20二(er)极(ji)(ji)管(guan)(guan)封口(kou)(kou),安(an)装使用在PCB上,于在光电业务(wu)格斗台结(jie)合(he)。(b)有(you)点弧(hu)面板(ban)孔直径的个(ge)(ge)人个(ge)(ge)性个(ge)(ge)人定(ding)制(zhi)MEMS连到(dao)器二(er)极(ji)(ji)管(guan)(guan)封口(kou)(kou)。(c)连到(dao)器LCC48二(er)极(ji)(ji)管(guan)(guan)封口(kou)(kou)TINY48.4中的单轴网镜,LCC48预熔(rong)接(jie)到(dao)TinyPCB中。(d)有(you)点个(ge)(ge)人个(ge)(ge)性个(ge)(ge)人定(ding)制(zhi)工(gong)业陶瓷二(er)极(ji)(ji)管(guan)(guan)封口(kou)(kou)的个(ge)(ge)人个(ge)(ge)性个(ge)(ge)人定(ding)制(zhi)刚性基础挠(nao)性PCB,代(dai)替7.5mm的玄幻MEMS弧(hu)面板(ban)。


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