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光电流成像系统助力纳米光电子器件研究

更新时间:2019-07-16 点击次数:2591

光电流成像系统助力纳米光电子器件研究

在太阳升(sheng)起能电(dian)池充(chong)电(dian)/光(guang)(guang)(guang)(guang)電(dian)观测器(qi)(qi)等光(guang)(guang)(guang)(guang)電(dian)元器(qi)(qi)理(li)论(lun)科(ke)(ke)学调(diao)查本职(zhi)本职(zhi)作(zuo)业,光(guang)(guang)(guang)(guang)電(dian)流是10分关(guan)键性(xing)性(xing)的(de)(de)(de)(de)一类能分析方(fang)法(fa)的(de)(de)(de)(de)方(fang)法(fa)法(fa)律手(shou)段。而(er)将光(guang)(guang)(guang)(guang)電(dian)流現象大(da)数据可(ke)视化(hua)的(de)(de)(de)(de)展示(shi)而(er)来(lai) ,会帮到(dao)理(li)论(lun)科(ke)(ke)学调(diao)查涂料实际上(shang)微观世界框架(jia)(jia)与(yu)光(guang)(guang)(guang)(guang)電(dian)流的(de)(de)(de)(de)充(chong)分感(gan)情,方(fang)便解涂料中(zhong)正电(dian)荷无线(xian)传输与(yu)pp的(de)(de)(de)(de)时带(dai)来(lai)了有(you)價值的(de)(de)(de)(de)数据。涂料位(wei)子(zi)(zi)与(yu)光(guang)(guang)(guang)(guang)電(dian)流深浅(qian)三二分别(bie)的(de)(de)(de)(de)mapping图,也会更应(ying)该正确(que)地(di)转化(hua)成涂料的(de)(de)(de)(de)关(guan)键性(xing)电(dian)学基本特性(xing)规(gui)格,譬(pi)如(ru)载流子(zi)(zi)蔓延时间,失去层长宽等等等等 。会非常(chang)好地(di)阐述(shu)元器(qi)(qi)内壁的(de)(de)(de)(de)本职(zhi)作(zuo)业原则,为元器(qi)(qi)的(de)(de)(de)(de)框架(jia)(jia)设(she)(she)(she)计(ji)与(yu)能升(sheng)级优化(hua)带(dai)来(lai)了了大(da)专(zhuan)一性(xing)的(de)(de)(de)(de)指导(dao)意见。近(jin)两年(nian),光(guang)(guang)(guang)(guang)電(dian)流显(xian)像机(ji)设(she)(she)(she)计(ji)在各纳米技术(shu)光(guang)(guang)(guang)(guang)電(dian)子(zi)(zi)元器(qi)(qi)理(li)论(lun)科(ke)(ke)学调(diao)查中(zhong)选(xuan)用颇(po)多。非常(chang)是在过渡性(xing)五(wu)金(jin)塑(su)炼物TMDS并且(qie) 黑鳞BP等二维涂料的(de)(de)(de)(de)领域愈(yu)发酷暑(shu),例如(ru)新型(xing)产(chan)品二维涂料的(de)(de)(de)(de)能并且(qie) 元器(qi)(qi)本职(zhi)作(zuo)业原则上(shang)和传统型(xing)半导(dao)体技术(shu)辨别(bie)从而(er),运用光(guang)(guang)(guang)(guang)電(dian)流显(xian)像机(ji)设(she)(she)(she)计(ji)则形成了一类理(li)论(lun)科(ke)(ke)学调(diao)查自有(you)生理(li)机(ji)制的(de)(de)(de)(de)关(guan)键性(xing)性(xing)方(fang)法(fa)法(fa)律手(shou)段。现有(you)理(li)论(lun)科(ke)(ke)学调(diao)查所通用的(de)(de)(de)(de)光(guang)(guang)(guang)(guang)電(dian)流显(xian)像机(ji)设(she)(she)(she)计(ji),方(fang)便增进准确(que)度(du)度(du)和信噪(zao)比(bi),因(yin)此都要应(ying)用锁相调(diao)大(da)器(qi)(qi)和光(guang)(guang)(guang)(guang)学玻璃斩波器(qi)(qi),会从而(er)地(di)增添(tian)每套机(ji)设(she)(she)(she)计(ji)的(de)(de)(de)(de)用费。

 
而我司代理的Nanobase的光电流成像系统,在显微共聚焦拉曼的基础上,可以方便的扩展微区光电成像功能,具有较高分辨率(光斑尺寸~2.3um),较大的扫描范围(200um*200um),振镜扫描的光点控制方式,可以实现同一点的拉曼/光电流/荧光/荧光寿命测量,为研究团队提供强有力的实验数据。

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韩(han)式成均馆读书的 Si Young Lee院士(shi)在(zai)他的研发Large Work Function Modulation of Monolayer MoS2 by Ambient Gases中(zhong)动用这套系統,研发了MoS2配(pei)件(jian)(jian)在(zai)有(you)所不同坏(huai)境有(you)机废气(qi)气(qi)体下的工作任务生产(chan)率,并终制得(de)局部钝化(hua)的新技术半导体器(qi)件(jian)(jian)芯片,其理想化(hua)指数(shu)基本上(shang)为1,包括的电可逆反应性,有(you)时候(hou)借(jie)助光(guang)电材料流(liu)三(san)维(wei)成像系統测(ce)定消耗殆尽层宽为~200nm,比体半导体器(qi)件(jian)(jian)芯片窄了极多。相(xiang)关的研发结果(guo)发过在(zai)ACS NANO报刊上(shang)(ACS Nano 2016,10,6,6100-6107)

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土耳其IMDEA-nanocientia的(de)(de)(de)(de)Andres Castellanos-Gomez硕士生(sheng)(sheng)论述(shu)党(dang)小组合(he)理利用内似的(de)(de)(de)(de)光(guang)(guang)(guang)学(xue)(xue)产(chan)品(pin)(pin)(pin)流(liu)影(ying)像控制系统(tong),论述(shu)了(le)在(zai)零偏压下(xia)(xia)依(yi)托于(yu)MoS2二维的(de)(de)(de)(de)材料同质p-n结电(dian)子(zi)元件中光(guang)(guang)(guang)学(xue)(xue)产(chan)品(pin)(pin)(pin)流(liu)的(de)(de)(de)(de)区(qu)(qu)域性时(shi)候。数据意(yi)味着(zhe),太阳光(guang)(guang)(guang)照晒下(xia)(xia)MoS2同质p-n结中光(guang)(guang)(guang)学(xue)(xue)产(chan)品(pin)(pin)(pin)流(liu)的(de)(de)(de)(de)发(fa)生(sheng)(sheng)大部分原因于(yu)p-n结区(qu)(qu)。主(zhu)要来说,添加分类有差(cha)异(yi) 的(de)(de)(de)(de)MoS2薄(bo)(bo)(bo)电(dian)影(ying)片(pian)段还能带失配发(fa)生(sheng)(sheng)内建(jian)交(jiao)(jiao)变(bian)磁场,当光(guang)(guang)(guang)影(ying)响(xiang)到2片(pian)MoS2薄(bo)(bo)(bo)片(pian)的(de)(de)(de)(de)交(jiao)(jiao)叠区(qu)(qu)域性(结区(qu)(qu))时(shi),光(guang)(guang)(guang)生(sheng)(sheng)载流(liu)子(zi)在(zai)里面建(jian)交(jiao)(jiao)变(bian)磁场的(de)(de)(de)(de)目(mu)的(de)(de)(de)(de)下(xia)(xia)分割(ge)继而(er)发(fa)生(sheng)(sheng)光(guang)(guang)(guang)学(xue)(xue)产(chan)品(pin)(pin)(pin)流(liu)。而(er)当光(guang)(guang)(guang)仅仅只(zhi)是(shi)影(ying)响(xiang)在(zai)一(yi)个(ge)MoS2薄(bo)(bo)(bo)片(pian)上(shang)时(shi),光(guang)(guang)(guang)生(sheng)(sheng)载流(liu)子(zi)会(hui)越(yue)来越(yue)快黏(nian)结,从而(er)导致无光(guang)(guang)(guang)学(xue)(xue)产(chan)品(pin)(pin)(pin)流(liu)发(fa)生(sheng)(sheng)。特点是(shi),编辑借(jie)(jie)助(zhu)光(guang)(guang)(guang)学(xue)(xue)产(chan)品(pin)(pin)(pin)流(liu)影(ying)像感(gan)觉更有效(xiao)(xiao)结区(qu)(qu)户型总(zong)面积是(shi)马(ma)上(shang)检测(ce)的(de)(de)(de)(de)受到的(de)(de)(de)(de)奈米薄(bo)(bo)(bo)片(pian)交(jiao)(jiao)叠户型总(zong)面积的(de)(de)(de)(de)1/2时(shi)间,为此电(dian)子(zi)元件光(guang)(guang)(guang)学(xue)(xue)产(chan)品(pin)(pin)(pin)装换的(de)(de)(de)(de)热(re)效(xiao)(xiao)率(lv)具体(ti)情况(kuang)效(xiao)(xiao)果(guo)被低估(gu)一(yi)倍时(shi)间。借(jie)(jie)助(zhu)光(guang)(guang)(guang)学(xue)(xue)产(chan)品(pin)(pin)(pin)流(liu)影(ying)像的(de)(de)(de)(de)测(ce)量,电(dian)子(zi)元件的(de)(de)(de)(de)具体(ti)情况(kuang)效(xiao)(xiao)果(guo)光(guang)(guang)(guang)学(xue)(xue)产(chan)品(pin)(pin)(pin)装换的(de)(de)(de)(de)热(re)效(xiao)(xiao)率(lv)可达1%。相关(guan)联论述(shu)成就文章发(fa)表在(zai)Small Methods刊物(wu)上(shang)(DOI:10.1002/smtd.201700119)上(shang)。

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微(wei)电子公(gong)司流(liu)(liu)影像体系,为探(tan)索微(wei)米微(wei)电子公(gong)司子元(yuan)功率(lv)(lv)元(yuan)器件封(feng)装中(zhong)光(guang)生载流(liu)(liu)子的(de)(de)(de)输送、分(fen)开与复合型(xing)流(liu)(liu)程,并且 进一(yi)大步(bu)优(you)化提(ti)升元(yuan)功率(lv)(lv)元(yuan)器件封(feng)装节(jie)构(gou)、增强元(yuan)功率(lv)(lv)元(yuan)器件封(feng)装微(wei)电子公(gong)司切换转化率(lv)(lv)提(ti)供了(le)(le)了(le)(le)非常大的(de)(de)(de)的(de)(de)(de)关心。

 
物品介绍一下:
1.XperRam C series

 

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,可同时实现稳态荧光成像功能
*的单振镜扫描技术,具有优异的扫描精度和重复性
激光扫描分辨率<0.02um,重复性小于0.1um
体相全息光栅
透过率>90%,比反射式光栅告30%,信号传输效率更高
扫描速度快,扫描范围大
200um*200um条件快(kuai)速路影像

2.XperRam S series

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的分辨率,可同时实现稳态荧光成像功能
光谱仪焦长200mm
像素尺寸16um/pixel
极限分辨率FWHM 2.5cm-1
可扩展光电流成像/TCSPC荧光寿命成像/电感耦合等离子体发射光谱模块
电化学等原位实验定制化服务
提高光光纤传输主板接口

3.荧光寿命成像模块

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测量范围100ps-10us
时间分辨率<50ps
探测效率高达49%
死时间<77ns
激发光波长 266nm-1990nm
脉宽6ns
去重(zhong)复速率(lv)31.15KHZ-80MHZ

4.光电流成像模块

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探针台位移精度1um(X/Y),10um(Z)
探针台移动范围 13mm(X/Y).20mm(Z)
探针溢泄电流 10fA

规范(fan)标准标配(pei)源表(biao) Keithley 2400, 其他源表(biao)可做适(shi)用

5.电感耦合等离子体发射光谱模块

6.激发光及信号光偏振控制模块
7.低波数拉曼模块

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